京东方申请掩膜版专利,能覆盖各掩膜图案正投影

京东方申请掩膜版专利,能覆盖各掩膜图案正投影金融界 2024 年 11 月 30 日消息 国家知识产权局信息显示 京东方科技集团股份有限公司申请一项名为 掩膜版 的专利 公开号 CN A 申请日期为 2024 年 8 月 专利摘要显示 本公开提供一种掩膜版 属于显示技术领域

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金融界2024年11月30日消息,国家知识产权局信息显示,京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“掩膜版”的专利,公开号CN A,申请日期为2024年8月。

专利摘要显示,本公开提供一种掩膜版,属于显示技术领域。本公开的掩膜版包括衬底基板、设置在衬底基板上的第一防静电结构和多个掩膜图案;第一防静电结构在衬底基板上的正投影覆盖各掩膜图案在衬底基板上的正投影;第一防静电结构包括多条导线;导线的宽度小于或者等于0.6um。

本文源自金融界

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