氟化镁(MgF2)晶体基片，氟化镁晶体是一种离子晶体，MgF2氟化镁晶体基片

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氟化镁(MgF2)晶体基片，氟化镁晶体是一种离子晶体，MgF2氟化镁晶体基片

基础信息：

氟化镁(MgF2)晶体基片

氟化镁晶体

别称：MgF2氟化镁晶体基片

描述：

氟化镁(MgF2)晶体基片是一种重要的光学元件，广应用于光学仪器、激光器、光谱仪等领域。它具有高透光性、高折射率、高抗损伤阈值等良好性能，因此被广应用于光学系统中。

氟化镁晶体是一种离子晶体，由镁离子和氟离子按一定的比例构成。它的晶体结构很稳定，具有良好的机械性能和化学稳定性。此外，氟化镁的折射率较高，在可见光范围内具有高透光性，因此被广用作光学元件。

在光学仪器中，氟化镁晶体基片通常被用作反射镜或透镜。由于其高折射率和稳定性，它可以有效地反射或透射各种波长的光线。此外，氟化镁晶体基片还可以用作激光器中的增益介质或光学存储器中的存储介质。

在激光器中，氟化镁晶体基片可以作为增益介质，通过吸收激光能量并将其转化为光子能量，从而放大激光束。由于其高抗损伤阈值，氟化镁晶体基片可以承受高功率激光的照射，因此在高功率激光器中具有广的应用。

文献应用：

为了在基于回音壁模式光学微腔的光学频率梳生成中优化微腔的性能和光频梳的质量,对氟化镁晶体微腔的色散调控进行研究.首先,理论仿真研究了MgF2晶体微腔边缘形状对腔内模场和总色散的影响;接着根据仿真结果实际加工了两种面形的MgF2晶体微腔,分别为边缘平面型和单边楔形;然后,搭建了微腔性能检测系统和晶体微腔光梳生成系统,实测加工出的MgF2晶体微腔样品的品质因子(Q值)最高可达1.1×108;最后在加工的两种面形晶体腔中均有效激发了超过200 nm的宽光谱范围的克尔光频梳.

实验结果验证了边缘楔形的微腔结构确实能够有效压缩模场并调控总色散,相比于边缘平面型的微腔能够产生更宽光谱范围的光梳.

传导类型:N型;半绝缘型

晶体生长方式: CVT化学气相传输法

抛向:单抛或双抛

用途：科研

冠醚修饰紫精

邻菲啰啉修饰冠醚

邻菲啰啉修饰苯并-15-冠-5

二苯基吡啶修饰苯并15冠5

吡啶二甲酸修饰二苯并24冠8

瑞禧生物仅用于科研，RL2023.12